新材料实验室-技术能力与服务

序号 计量器具或参数名称 测量范围 校准测量能力/准确度等级/最大允许误差 依据/参考文件名称及编号
1 薄膜面电阻测试 方块电阻:
(10-3~106) Ω/sq
/ 国家标准:硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法(GB/T 14141-2009)
2 拉曼光谱仪 拉曼频移:
(10~4000) cm-1
拉曼频移:
U=2.0 cm-1 (k=2)
拉曼强度:
U=16.0% (k=2)
拉曼光谱仪校准规范(JJF 1544-2015)
国家标准:纳米技术 激光共聚焦显微拉曼光谱仪性能测试(GB/T 33252-2016)
国家标准:纳米技术 用于拉曼光谱校准的标准拉曼频移曲线(GB/T 36063-2018)
激光共聚焦拉曼光谱仪校准方法
(NIM-ZY-NM-CL-022)
3 拉曼测试 拉曼频移:
(10~4000) cm-1
拉曼频移:
U=2.0 cm-1 (k=2)
拉曼强度:
U=16.0% (k=2) 
拉曼光谱仪校准规范(JJF 1544-2015)
国家标准:纳米技术 激光共聚焦显微拉曼光谱仪性能测试(GB/T 33252-2016)
国家标准:纳米技术
用于拉曼光谱校准的标准拉曼频移曲线(GB/T 36063-2018)
拉曼光谱仪测量方法作业指导书
(NIM-ZY-NM-CL-059)
4 石墨烯材料多方法系列检测认定 / / 石墨烯材料测试方法 拉曼光谱法
(NIM-ZY-NM-CL-055)
5 薄膜表面粗糙度AFM测试 125 μm × 125 μm × 5 μm Urel=5% (k=2) 国家标准:原子力显微镜测量溅射薄膜表面粗糙度的方法
(GB/T 31227-2014)
6 X射线光电子能谱仪 测量深度:3-10 nm X-射线光电子能谱分析方法通则(GB-T 19500-2004)
X射线光电子能谱仪检定方法(GBT 25184-2010)
表面化学分析 X射线光电子能谱仪 能量标尺的校准(GB T 22571-2008)
7 纳米尺度膜厚  (0~200) nm U=0.3+1.5%H,k=2,H为测量厚度值,单位:nm  NIM-ZY-NM-CL-003 X射线反射法纳米薄膜厚度标准片校准方法
8 XRD物相测试 / / NIM-ZY-QY-CL-002
X射线衍射仪测量物相作业指导书
9 摇摆曲线 / / NIM-ZY-QY-CL-003
X射线衍射仪测量摇摆曲线作业指导书
10 X射线晶体定向仪标片 / / NIM-ZY-QY-CL-004
X射线衍射仪测量X射线晶体定向仪标片作业指导书
11 微纳尺度薄膜厚度,椭偏仪 2 nm~10 μm / NIM-ZY-QY-CL-001
光谱椭偏仪测量方法作业指导书
12 透射电镜 0.1 nm-1 nm 0.0030 nm T/CSTM 00162-2019透射电子显微镜校准方法
13 电子背散射衍射仪 0.5°-180° 0.1° GB/T 34172-2017微束分析 电子背散射衍射 金属及合金的相分析方法
14 块体热电材料塞贝克系数测试 室温~800℃ 相对扩展不确定度<5%(k=2)  
15 薄膜热电材料塞贝克系数测试 -100℃~320℃ 相对标准不确定度<10%   
16 薄膜相变温度测试 室温~700℃ 相对扩展不确定度<5%(k=2)  
17 微纳米压入测试 载荷100μN-30MN / ISO 14577 《金属材料 硬度和材料参数的仪器化压痕试验 第4部分:金属和非金属覆盖层的试验方法》
18 微米划痕测试 载荷30mN-30N / GBT 30707-2014 精细陶瓷涂层结合力试验方法 划痕法