序号 | 计量器具或参数名称 | 测量范围 | 校准测量能力/准确度等级/最大允许误差 | 依据/参考文件名称及编号 |
1 | 薄膜面电阻测试 | 方块电阻: (10-3~106) Ω/sq |
/ | 国家标准:硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法(GB/T 14141-2009) |
2 | 拉曼光谱仪 | 拉曼频移: (10~4000) cm-1 |
拉曼频移: U=2.0 cm-1 (k=2) 拉曼强度: U=16.0% (k=2) |
拉曼光谱仪校准规范(JJF 1544-2015) 国家标准:纳米技术 激光共聚焦显微拉曼光谱仪性能测试(GB/T 33252-2016) 国家标准:纳米技术 用于拉曼光谱校准的标准拉曼频移曲线(GB/T 36063-2018) 激光共聚焦拉曼光谱仪校准方法 (NIM-ZY-NM-CL-022) |
3 | 拉曼测试 | 拉曼频移: (10~4000) cm-1 |
拉曼频移: U=2.0 cm-1 (k=2) 拉曼强度: U=16.0% (k=2) |
拉曼光谱仪校准规范(JJF 1544-2015) 国家标准:纳米技术 激光共聚焦显微拉曼光谱仪性能测试(GB/T 33252-2016) 国家标准:纳米技术 用于拉曼光谱校准的标准拉曼频移曲线(GB/T 36063-2018) 拉曼光谱仪测量方法作业指导书 (NIM-ZY-NM-CL-059) |
4 | 石墨烯材料多方法系列检测认定 | / | / | 石墨烯材料测试方法 拉曼光谱法 (NIM-ZY-NM-CL-055) |
5 | 薄膜表面粗糙度AFM测试 | 125 μm × 125 μm × 5 μm | Urel=5% (k=2) | 国家标准:原子力显微镜测量溅射薄膜表面粗糙度的方法 (GB/T 31227-2014) |
6 | X射线光电子能谱仪 | 测量深度:3-10 nm | / | X-射线光电子能谱分析方法通则(GB-T 19500-2004) X射线光电子能谱仪检定方法(GBT 25184-2010) 表面化学分析 X射线光电子能谱仪 能量标尺的校准(GB T 22571-2008) |
7 | 纳米尺度膜厚 | (0~200) nm | U=0.3+1.5%H,k=2,H为测量厚度值,单位:nm | NIM-ZY-NM-CL-003 X射线反射法纳米薄膜厚度标准片校准方法 |
8 | XRD物相测试 | / | / | NIM-ZY-QY-CL-002 X射线衍射仪测量物相作业指导书 |
9 | 摇摆曲线 | / | / | NIM-ZY-QY-CL-003 X射线衍射仪测量摇摆曲线作业指导书 |
10 | X射线晶体定向仪标片 | / | / | NIM-ZY-QY-CL-004 X射线衍射仪测量X射线晶体定向仪标片作业指导书 |
11 | 微纳尺度薄膜厚度,椭偏仪 | 2 nm~10 μm | / | NIM-ZY-QY-CL-001 光谱椭偏仪测量方法作业指导书 |
12 | 透射电镜 | 0.1 nm-1 nm | 0.0030 nm | T/CSTM 00162-2019透射电子显微镜校准方法 |
13 | 电子背散射衍射仪 | 0.5°-180° | 0.1° | GB/T 34172-2017微束分析 电子背散射衍射 金属及合金的相分析方法 |
14 | 块体热电材料塞贝克系数测试 | 室温~800℃ | 相对扩展不确定度<5%(k=2) | |
15 | 薄膜热电材料塞贝克系数测试 | -100℃~320℃ | 相对标准不确定度<10% | |
16 | 薄膜相变温度测试 | 室温~700℃ | 相对扩展不确定度<5%(k=2) | |
17 | 微纳米压入测试 | 载荷100μN-30MN | / | ISO 14577 《金属材料 硬度和材料参数的仪器化压痕试验 第4部分:金属和非金属覆盖层的试验方法》 |
18 | 微米划痕测试 | 载荷30mN-30N | / | GBT 30707-2014 精细陶瓷涂层结合力试验方法 划痕法 |