膜厚测量及其标准物质的研究

多层纳米薄膜厚度标准物质

集成电路和半导体产业的质量控制以及表面分析设备校准都需要纳米尺度膜厚准确测量技术和相关标准物质。掠入射X射线反射技术（GIXRR），是一种纳米薄膜厚度的绝对、无损测量技术。计量院建立了基于GIXRR技术的纳米薄膜厚度量值溯源和传递体系，建立了纳米薄膜厚度校准装置（[2014]国量标计证字第273号），制定了设备校准规范JJF1613-2017。建立了纳米膜厚的有效测量方法，主导双边比对和参加APMP比对，量值国际等效一致，并通过CMC国际同行评审和CNAS认可。发布了GaAs/AlAs、SiO2、Si3N4和HfO2薄膜4类共12种膜厚标准物质。研究成果应用在大型先进设备校准、集成电路及半导体产业的生产质控及国家重大基础科学研究，并取得了一定的经济及社会效益。该项目获2016年度中国计量测试学会三等奖。