被测设备 （校准项目）名称
椭偏仪、硅片标片、氧化硅薄膜、氮化硅薄膜标准样品、非标光学薄膜、薄膜折射率标样/标片、反射式相位延迟膜

序号
173
校准方法 （名称、编号、版本号）
NIM-ZY-GX-FS-405椭偏仪校准规范（已报批）;
NIM-ZY-GX- FS-412椭偏仪校准装置和标准样品椭偏角校准规范;
Preparation and certification of SRM2530, ellipsometric parameters Δand ψ and derived thickness and refractive index of a silicon dioxide layer on silicon (NIST. Spec. Publ. 260-109, 1988);
GJB/J 5463光学薄膜折射率和厚度测试仪检定规程
限制范围和说明
椭偏角（CNAS），模型等效介质参量：薄膜折射率n、薄膜色散n(λ)及k(λ)、平均膜厚等。
编号
guangxue_173
研究所
光学所