APMP透射电镜比对

图1 采用GBW13655透射电子显微镜高放大倍率校准用标准物质（Au{111}）校准的

Si {220}晶面间距的测量结果。（左图：样品B；右图：样品C）

中国计量科学研究院主导了亚太计量组织/材料计量技术委员会（APMP/TCMM）比对研究，中国、日本、加拿大和泰国四个国家的计量机构参与了此次比对，使用透射电镜测量Au{111}晶面间距样品和不同状态的Si{220}晶面间距样品，比对研究表明，样品制备方式和透射电镜校准对透射电镜测量结果准确性和一致性有重要影响，该比对结果可以为半导体材料、纳米材料的尺寸准确测量提供参考支撑。